Construction of CuBi2O4/CdO p-n buried junction for boosted photoelectrochemical water splitting
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所属单位：国家胶体材料工程技术研究中心
论文名称：Construction of CuBi2O4/CdO p-n buried junction for boosted photoelectrochemical water splitting
发表刊物：MATERIALS TODAY COMMUNICATIONS
第一作者：舒展
论文编号：DD98DD3948D24CBF83AB3CD487D3ECBC
期号：36
字数：7
是否译文：否
发表时间：2023-05
发布时间：2023-10-24
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