所属单位：晶体材料研究院（晶体材料全国重点实验室）

论文名称：Surface plasmon enhanced photochemical etching of p-type GaP: a direct demonstration of wavelength selectivity

发表刊物：Physical chemistry chemical physics

第一作者：刘铎

全部作者：刘铎

论文编号：lw-164305

卷号：16

页面范围：20216

字数：4

是否译文：否

发表时间：2014-08

发布时间：2019-10-24