刘宏

教授

Optimization of a two-step Ni(5% Pt) germanosilicidation process and the redistribution of Pt in Ni(Pt)Si1-xGex germanosilicide

• 所属单位：
  晶体材料研究院
• 发表刊物：
  VACUUM
• 全部作者：
  刘宏
• 第一作者：
  刘宏
• 论文编号：
  lw-173032
• 是否译文：
  否
• 发表时间：
  2015-01-06