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刘宏
教授
所属院部:
晶体材料研究院
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论文成果
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Origin of Ferroelectric Modification: The Thermal Behavior of Dopant Ions
所属单位:
晶体材料研究院
发表刊物:
CRYSTAL GROWTH & DESIGN
全部作者:
刘宏,李妍璐,桑元华
第一作者:
Sun, Dehui
论文编号:
C7A7ACEF4C014E2FB15F77C29839499C
卷号:
18
期号:
9
页面范围:
4860
是否译文:
否
发表时间:
2018-08-15
上一条:
Full-Spectrum Solar-Light-Activated Photocatalysts for Light-Chemical Energy Conversion
下一条:
Hierarchical TiO<inf>2</inf>nanonetwork-porous Ti 3D hybrid photocatalysts for continuous-flow photoelectrodegradation of organic pollutants
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