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刘宏
教授
所属院部：
晶体材料研究院
访问次数：
次
论文成果
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The formation of patterns of electrochemical deposits in an ultra-thin layer of CuSO4 solution
所属单位：
晶体材料研究院
发表刊物：
Journal of Electroanalytical Chemistry
全部作者：
于光伟,王继扬,刘铎,刘宏
第一作者：
于光伟
论文编号：
0BF32FE7D0F940EBA0C22B81A184A579
卷号：
611
期号：
1-2
页面范围：
169
字数：
4
是否译文：
否
发表时间：
2007-12-15
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