一种单晶硅微纳双尺度减反射绒面及其制备方法
点击次数：
所属单位：机械工程学院
专利类型：发明
申请号：202210697039.8
发明人数：7
是否职务专利：否
申请日期：2022-06-20
公开日期：2023-11-21
授权日期：2023-11-21
公开日期：2023-11-21
申请日期：2022-06-20
授权日期：2023-11-21
实验师
性别：女
在职信息：在职
所在单位：机械工程学院
入职时间：2017-08-02
一种单晶硅微纳双尺度减反射绒面及其制备方法
点击次数：
所属单位：机械工程学院
专利类型：发明
申请号：202210697039.8
发明人数：7
是否职务专利：否
申请日期：2022-06-20
公开日期：2023-11-21
授权日期：2023-11-21
公开日期：2023-11-21
申请日期：2022-06-20
授权日期：2023-11-21