The damage analysis of Nd:YVO4 crystal implanted by He + ions at low energy
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所属单位：信息科学与工程学院
关键字：Annealing;Atomic force microscopy;Crystals;Optoelectronic devices;Photoluminescence;Photonics;Rutherford backscattering spectroscopy
第一作者：Ma, Yujie
论文编号：1395300583568576514
字数：7000
是否译文：否
发表时间：2012-01-01