论文成果

返回中文主页

beta-Ga2O3 epitaxial films deposited on epi-GaN/sapphire (0001) substrates by MOCVD

发布时间:2019-10-25
点击次数:
所属单位:
微电子学院
发表刊物:
Materials Science in Semiconductor Processing
全部作者:
肖洪地,冯先进,马瑾
第一作者:
曹琼
论文类型:
基础研究
论文编号:
3891A01B92C44DCAAD07D31EC88B3B5F
卷号:
77
页面范围:
58
是否译文:
发表时间:
2018-04-01