Characterization of Rutile SnO2 Epitaxial Films Grown on MgF2 (001) Substrates by MOCVD
发布时间：2022-11-16
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- 所属单位：
- 集成电路学院
- 发表刊物：
- Crystal Research and Technology
- 第一作者：
- 栾彩娜
- 论文编号：
- 0594DF206D0340898C8FFB48CD9E2B87
- 卷号：
- 53
- 期号：
- 10
- 字数：
- 3000
- 是否译文：
- 否
- 发表时间：
- 2018-09-21