一种由磁控溅射制备纳米多孔铜薄膜材料的方法
发布时间:2019-04-15 点击数:
专利名称:一种由磁控溅射制备纳米多孔铜薄膜材料的方法
所属单位:材料科学与工程学院
专利类型:发明
申请号:201610071243.3
发明人数:1
是否职务专利:否
申请日期:2016-02-01
公开日期:2018-03-27
授权日期:2018-03-27
专利名称:一种由磁控溅射制备纳米多孔铜薄膜材料的方法
所属单位:材料科学与工程学院
专利类型:发明
申请号:201610071243.3
发明人数:1
是否职务专利:否
申请日期:2016-02-01
公开日期:2018-03-27
授权日期:2018-03-27