孙友轩
|
个人信息Personal Information
工程师
性别：男
在职信息：在职
所在单位：晶体材料研究院
入职时间：1985-07-01
扫描关注
Insights into the polymorphism of Bi2W2O9: single crystal growth and a complete survey of the variable-temperature thermal and dielectric properties
点击次数：
所属单位：晶体材料研究所
论文名称：Insights into the polymorphism of Bi2W2O9: single crystal growth and a complete survey of the variable-temperature thermal and dielectric properties
发表刊物：CrystEngComm
第一作者：Tian, Xiangxin
全部作者：高泽亮,孙友轩,陶绪堂
论文类型：基础研究
论文编号：9D0601D47A504B09A58DAC814DB4D10F
卷号：20
期号：19
页面范围：2669
是否译文：否
发表时间：2018-05
发布时间：2019-04-14