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个人信息Personal Information
工程师
性别：男
在职信息：在职
所在单位：晶体材料研究院
入职时间：1985-07-01
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Insights into the polymorphism of Bi2W2O9: single crystal growth and a complete survey of the variable-temperature thermal and dielectric properties
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所属单位：晶体材料研究院
发表刊物：CrystEngComm
全部作者：高泽亮,孙友轩,陶绪堂
第一作者：Tian, Xiangxin
论文类型：基础研究
论文编号：9D0601D47A504B09A58DAC814DB4D10F
卷号：20
期号：19
页面范围：2669
是否译文：否
发表时间：2018-05-21