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个人信息Personal Information
工程师
性别：男
在职信息：在职
所在单位：晶体材料研究院
入职时间：1985-07-01
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一类碲酸盐晶体及其生长方法与应用
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所属单位：晶体材料研究所
申请专利人：陶绪堂,高泽亮,孙友轩
专利类型：PCT或外国申请
申请号：PCT/CN2017/104972
发明人数：3
是否职务专利：否
申请日期：2017-09-30