- Exceptional Lithography Sensitivity Boosted by Hexafluoroisopropanols in Photoresists
- 发布时间：2024-12-19 | 点击次数：
- 所属单位：国家胶体材料工程技术研究中心
副研究员 硕士生导师
性别：女
毕业院校： 北京师范大学
学历： 博士研究生毕业
学位： 博士
在职信息： 在职
所在单位： 国家胶体材料工程技术研究中心
入职时间： 2023-08-30
所属院系： 国家胶体材料工程技术研究中心
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