标题：
Sol-gel processed high-k aluminum oxide dielectric films for fully solution-processed low-voltage thin-film transistors
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所属单位：
材料科学与工程学院
发表刊物：
Ceramics International
全部作者：
王素梅
第一作者：
Xia, Wenwen
论文类型：
基础研究
论文编号：
E1ED76533B5F466EB560B11401BC831A
卷号：
44
期号：
8
页面范围：
9125
是否译文：
否
发表时间：
2018-06-01
发表时间：
2018-06-01
职称：副教授
所在单位：材料科学与工程学院