标题：
Eco-friendly, low-temperature solution production of oxide thin films for high-performance transistors via infrared irradiation of chloride precursors
点击次数：
所属单位：
材料科学与工程学院
发表刊物：
Ceramics International
全部作者：
王素梅
第一作者：
王素梅
论文编号：
30CBA41A7E254B51BAF1A9D1ECB8583B
卷号：
45
期号：
8
页面范围：
9829
是否译文：
否
发表时间：
2019-07-01
发表时间：
2019-07-01
职称：副教授
所在单位：材料科学与工程学院