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王素梅

教师拼音名称：wangsumei
入职时间：2010-10-22
所在单位：材料科学与工程学院
性别：女
在职信息：在职
是否在职：1

当前位置: 中文主页 >> 科学研究 >> 论文成果

标题：

Ti doping enhanced alumina dielectrics for low-voltage thin-film transistors via low-temperature lightwave irradiation

点击次数：

所属单位：

材料科学与工程学院

发表刊物：

Journal of Materials Science: Materials in Electronics

第一作者：

王素梅

论文编号：

DBB6FF101076483281823C168F7CA292

卷号：

期号：

页面范围：

5866

字数：

是否译文：

否

发表时间：

2020-04-01

发表时间：

2020-04-01

上一条： Rapid and facile low-temperature solution production of ZrO2 films as high-k dielectrics for flexible low-voltage thin-film transistors

下一条： A facile low-cost preparation of high-k ZrO2 dielectric films for superior thin-film transistors

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