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Charge-trapping memory based on tri-layer alumina gate stack and InGaZnO channel

发布时间:2020-06-05
点击次数:
所属单位:
微电子学院
发表刊物:
SEMICONDUCTOR SCIENCE AND TECHNOLOGY
第一作者:
马鹏飞
论文类型:
应用研究
论文编号:
ED7FB9B9098F4949949DD0339CBED711
卷号:
35
期号:
5
是否译文:
发表时间:
2020-04-09