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具有空间氧空位分布的BiVO4光催化材料及其制备方法与应用

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专利名称：具有空间氧空位分布的BiVO4光催化材料及其制备方法与应用
所属单位：晶体材料研究院（晶体材料全国重点实验室）
专利类型：发明
申请号：202211164548.0
发明人数：8
是否职务专利：否
申请日期：2022-09-23
公开日期：2024-04-05
授权日期：2024-04-05
发布时间：2024-05-21

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