专利
一种高质量氧化镓晶片的制备方法与应用
发布时间:2022-11-16
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所属单位:
晶体材料研究院(晶体材料全国重点实验室)
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专利类型:
发明
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申请号:
201611078605.8
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发明人数:
5
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是否职务专利:
否
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申请日期:
2016-11-30
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公开日期:
2020-04-17
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授权日期:
2020-04-17
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