Preparation of bilayer graphene utilizing CuO as nucleation sites by CVD method
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所属单位：晶体材料研究所
发表刊物：Journal of Materials Science-Materials in Electronics
全部作者：杨志远,孙丽,于法鹏,李妍璐,程秀凤,赵显
第一作者：张晶
论文类型：基础研究
论文编号：C56322E11E0342C9BA377C89D0068121
卷号：29
期号：6
页面范围：4495
是否译文：否
发表时间：2018-03-01
发表时间：2018-03-01