Effect and Mechanism of Hydrogen-Assisted Sulfur Intercalation for Decoupling Graphene from Cu(111) Substrate: A First-Principles Study
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所属单位：晶体材料研究院
发表刊物：Applied Surface Science
第一作者：孙秀彩
论文编号：469FE976D0474CC59867C8281EAE2443
卷号：567
字数：5
是否译文：否
发表时间：2021-08-08
发表时间：2021-08-08