Preparation and optimization of freestanding GaN using low-temperature GaN layer

发布时间:2020-03-20| 点击次数:

所属单位:晶体材料研究院(晶体材料全国重点实验室)

论文名称:Preparation and optimization of freestanding GaN using low-temperature GaN layer

发表刊物:Frontiers of Materials Science

第一作者:田媛

全部作者:张保国,张雷,吴拥中,郝霄鹏,邵永亮

论文编号:2DF14C2A0FF0478F9C1EBCF5EDF06AD8

卷号:13

期号:3

页面范围:314

字数:3

是否译文:否

发表时间:2019-05

发布时间:2020-03-20