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外部和内部因素对纳米晶合金kHz级饱和磁化过程影响的微磁学分析: 点击次数：; 所属单位：电气工程学院; 发表刊物：电工技术学报; 全部作者：邹亮,张黎,赵彤; 第一作者：韩智云; 论文编号：CBFC504B51374F71A4C9C3EDA0F01FB8; 卷号：34; 期号：8; 页面范围：1589; 字数：6; 是否译文：否; 发表时间：2019-04-25

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