Effect of argon pressure on the structure and resistivity of dc magnetron sputtered LaB6 films
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所属单位：材料科学与工程学院
发表刊物：Applied mechanics and materials
全部作者：闵光辉,张琳
第一作者：闵光辉
论文类型：基础研究
论文编号：lw-151419
卷号：303-306
页面范围：2519-2523
是否译文：否
发表时间：2013-02-13
发表时间：2013-02-13