Effect of argon pressure on the structure and resistivity of dc magnetron sputtered LaB6 films
发布时间：2019-10-24 点击数：
所属单位：材料科学与工程学院
论文名称：Effect of argon pressure on the structure and resistivity of dc magnetron sputtered LaB6 films
发表刊物：Applied mechanics and materials
第一作者：闵光辉
全部作者：张琳,闵光辉
论文类型：基础研究
论文编号：lw-151419
卷号：303-306
页面范围：2519-2523
是否译文：否
发表时间：2013-02