Effect of argon pressure on the structure and resistivity of dc magnetron sputtered LaB6 films
发布时间：2021-10-09 点击数：
所属单位：材料科学与工程学院
论文名称：Effect of argon pressure on the structure and resistivity of dc magnetron sputtered LaB6 films
发表刊物：Applied mechanics and materials
第一作者：胡立杰
论文编号：77BFCDF1E9E74A23858D27FB9412BD23
期号：303-306
页面范围：2519
字数：5
是否译文：否
发表时间：2013-02