Effect of argon pressure on the structure and resistivity of dc magnetron sputtered LaB6 films
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所属单位：材料科学与工程学院
发表刊物：Applied Mechanics and Materials.
第一作者：胡立杰
论文类型：基础研究
论文编号：77BFCDF1E9E74A23858D27FB9412BD23
期号：303-306
页面范围：2519
字数：5
是否译文：否
发表时间：2013-02-13
发表时间：2013-02-13