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The pH-dependent contributions of radical species during the removal of aromatic acids and bases in light/chlorine systems

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所属单位：环境研究院

发表刊物：Chemical Engineering Journal

第一作者：安泽秀

论文编号：C300C90646984FF9A50B022B3695A57C

卷号：433

字数：7

是否译文：否

发表时间：2022-04-01

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占金华 (教授)