Affiliation of Author(s):晶体材料研究院
Journal:Applied surface science
First Author:孙秀彩
Indexed by:Unit Twenty Basic Research
Document Code:469FE976D0474CC59867C8281EAE2443
Volume:567
Translation or Not:no
Date of Publication:2021-08-08
zhaoxian
Professor
山东大学教授、博士生导师，国家安全重大基础研究项目（GF973）首席科学家、JKW重大基础研究项目（GF173）首席科学家、国家科技奖励评审专家，JKW主题专家，山东省杰出青年基金获得者。长期从事与国防应用密切相关的光电功能晶体材料、新型器件及应用等方面的研究工作。先后主持科技部卡脖子项目JKW重大基础研究项目、国家安全重大基础研究项目、国家自然科学基金重大研究计划重点课题、973重大基础研究前期专项、国家自然科学基金面上项目、山东省重大科技创新工程项目等省部级... More+
Paper Publications
Effect and Mechanism of Hydrogen-Assisted Sulfur Intercalation for Decoupling Graphene from Cu(111) Substrate: A First-Principles Study
Release time:2021-09-24|Hits: