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低温等离子体辅助MOCVD技术制备AlInN薄膜材料的生长及掺杂特性研究
所属单位:
物理学院
负责人姓名:
计峰
项目来源单位:
国家基金委
项目性质:
纵向
项目级别:
国家级
项目参与人员:
计峰,计峰,宗福建,栾彩娜,张锡健
项目编号:
kyxm-14368
立项时间:
2011-01-01
计划完成时间:
2013-12-31
结项日期:
2013-12-31
开始日期:
2011-01-01
项目批准号:
51072101
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低温等离子体辅助MOCVD技术制备AlInN薄膜材料的生长及掺杂特性研究
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高质量锌锡氧化物透明导电薄膜的制备
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