Preparation and optimization of freestanding GaN using low-temperature GaN layer

发布时间:2020-03-20|点击次数:

所属单位:晶体材料研究院

论文名称:Preparation and optimization of freestanding GaN using low-temperature GaN layer

发表刊物:Frontiers of Materials Science

全部作者:邵永亮,郝霄鹏,吴拥中,张雷,张保国

第一作者:田媛

论文类型:基础研究

论文编号:2DF14C2A0FF0478F9C1EBCF5EDF06AD8

卷号:13

期号:3

页面范围:314

是否译文:否

发表时间:2019-05-21