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专利
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一种使用暗场光学成像技术判别二维材料层数的方法
发布时间:2023-11-01
点击次数:
所属单位:
集成电路学院
专利类型:
发明
申请号:
202211106087.1
发明人数:
4
是否职务专利:
否
申请日期:
2022-09-09
公开日期:
2023-10-31
授权日期:
2023-10-31
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