- High patterning photosensitivity by a novel fluorinated copolymer formulated resist
- 点击次数：
- 所属单位：国家胶体材料工程技术研究中心
- 发表刊物：European Polymer Journal
- 第一作者：郭雅娜
- 论文编号：632A914D660F42579579A8D0504ACA08
- 卷号：211
- 期号：无
- 页面范围：113009
- 字数：8000
- 是否译文：否
- 发表时间：2024-05-15
实验师
性别：男
毕业院校： 山东大学
学历： 研究生(博士)毕业
学位： 理学博士学位
在职信息： 在职
所在单位： 物理学院
入职时间： 2020-09-07