- Exceptional Lithography Sensitivity Boosted by Hexafluoroisopropanols in Photoresists
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- 所属单位：国家胶体材料工程技术研究中心
- 发表刊物：polymers
- 第一作者：刘俊俊
- 论文编号：DCE1A78A48074FA5A119FBCBE5F756DE
- 卷号：16
- 期号：6
- 字数：8000
- 是否译文：否
- 发表时间：2024-03-15
实验师
性别：男
毕业院校： 山东大学
学历： 研究生(博士)毕业
学位： 理学博士学位
在职信息： 在职
所在单位： 物理学院
入职时间： 2020-09-07