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论文成果
Exceptional Lithography Sensitivity Boosted by Hexafluoroisopropanols in Photoresists
发布时间:2024-12-19 | 点击次数:
所属单位:国家胶体材料工程技术研究中心
发表刊物:Polymers
第一作者:刘俊俊
论文编号:1777985786281746433
卷号:16
期号:6
字数:5
是否译文:
发表时间:2024-03

王东

实验师

性别:男

毕业院校: 山东大学

学历: 研究生(博士)毕业

学位: 理学博士学位

在职信息: 在职

所在单位: 物理学院

入职时间: 2020-09-07

所属院系: 物理学院

电子邮箱:

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