A novel thermally evaporated etching mask for low-damage dry etching
发布时间：2024-04-17 点击数：
论文名称：A novel thermally evaporated etching mask for low-damage dry etching
发表刊物：IEEE Transactions on Nanotechnology
第一作者：Hanbin Wang
通讯作者：Aimin Song*,Lin Han*
全部作者： Qian Xin, Qingpu Wang, Gengchang Zhu,Yiming Wang
论文类型：期刊论文
卷号：16
期号：2
页面范围：290-295
是否译文：否
发表时间：2017-02