一种基于单宁酸的正性光刻材料及其制备方法、光刻胶体系及在制备微纳电路中的应用
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Title:一种基于单宁酸的正性光刻材料及其制备方法、光刻胶体系及在制备微纳电路中的应用
Institution:国家胶体材料工程技术研究中心
Type of Patent:Invent
Application Number:202111418612.9
Number of Inventors:3
Service Invention or Not:No
Application Date:2021-11-26
Publication Date:2024-08-02
Authorization Date:2024-08-02
Release Time:2024-08-22