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个人信息Personal Information
博士生导师 硕士生导师
毕业院校：Nagoya Institute of Technology, Japan
学历：博士研究生毕业
学位：博士生
在职信息：在职
所在单位：国家胶体材料工程技术研究中心
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New Chemically Amplified Positive Photoresist with Phenolic Resin Modified by GMA and BOC Protection
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所属单位：国家胶体材料工程技术研究中心
发表刊物：polymers
第一作者：刘俊俊
论文编号：C76060312FBA41D080C191512BE59258
卷号：15
期号：7
字数：8000
是否译文：否
发表时间：2023-03-23
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