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个人信息Personal Information
博士生导师 硕士生导师
毕业院校：Nagoya Institute of Technology, Japan
学历：博士研究生毕业
学位：博士生
在职信息：在职
所在单位：国家胶体材料工程技术研究中心
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Exceptional Lithography Sensitivity Boosted by Hexafluoroisopropanols in Photoresists
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所属单位：国家胶体材料工程技术研究中心
发表刊物：polymers
第一作者：刘俊俊
论文编号：DCE1A78A48074FA5A119FBCBE5F756DE
卷号：16
期号：6
字数：8000
是否译文：否
发表时间：2024-03-15