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个人信息Personal Information
博士生导师 硕士生导师
毕业院校：Nagoya Institute of Technology, Japan
学历：博士研究生毕业
学位：博士生
在职信息：在职
所在单位：国家胶体材料工程技术研究中心
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Enhanced Lithography Performance with Imino/Imido Benzenesulfonate Photoacid Generator-Bound Polymer Resists
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所属单位：国家胶体材料工程技术研究中心
发表刊物：small
第一作者：刘越
论文编号：0EFD617AD3DF4747ABA77208E807326A
期号：2412297
字数：8
是否译文：否
发表时间：2025-03-05