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个人信息Personal Information
博士生导师 硕士生导师
毕业院校：Nagoya Institute of Technology, Japan
学历：博士研究生毕业
学位：博士生
在职信息：在职
所在单位：国家胶体材料工程技术研究中心
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一种基于单宁酸的正性光刻材料及其制备方法、光刻胶体系及在制备微纳电路中的应用
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所属单位：国家胶体材料工程技术研究中心
专利类型：发明
申请号：202111418612.9
发明人数：3
是否职务专利：否
申请日期：2021-11-26
公开日期：2024-08-02
授权日期：2024-08-02