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氧分压对直流磁控溅射IGZO 薄膜特性的影响
发布时间：2019-04-14
点击次数：
所属单位：
信息科学与工程学院
发表刊物：
《真空科学与技术学报》
第一作者：
李玲
论文类型：
应用研究
论文编号：
lw-172060
是否译文：
否
发表时间：
2015-10-01
上一条：
Effect of sputtering pressure on surface Roughness Oxygen Vacancy and Electrical Properties of a-IGZO Thin Films
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Effect of thermal annealing on the properties of transparent conductive In-Ga-Zn oxide thin films
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