Electordepositon of submicron/nanoscale Cu2O/Cu junctions in an ultrathin CuSO4 solution layer

发布时间:2019-10-24| 点击次数:

所属单位:晶体材料研究院(晶体材料全国重点实验室)

论文名称:Electordepositon of submicron/nanoscale Cu2O/Cu junctions in an ultrathin CuSO4 solution layer

发表刊物:Journal of Electroanalytical Chemistry

第一作者:于光伟

全部作者:王继扬,112500170001,张怀金,李静,孙大亮,刘铎,胡小波,于光伟

论文编号:lw-84491

卷号:638

页面范围:225

是否译文:否

发表时间:2010-01

发布时间:2019-10-24