Growth mechanisms of alpha-boron and beta-boron in a copper melt at ambient pressure and its stabilities
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所属单位：材料科学与工程学院
发表刊物：CrystEngComm
全部作者：武玉英,刘相法
第一作者：孙祖鑫
论文类型：基础研究
论文编号：0C75992E9100423BAC5062858EE817FD
卷号： 19
期号：28
页面范围：3947
是否译文：否
发表时间：2017-07-28
发表时间：2017-07-28