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栾彩娜
高级实验师
硕士生导师
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论文成果
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Preparation and characterization of transparent indium- doped TiO2 films deposited by MOCVD
所属单位:
微电子学院
发表刊物:
Ceramics International
全部作者:
冯先进,栾彩娜,马瑾
第一作者:
赵伟
论文类型:
基础研究
论文编号:
52DF21F161634C7D9EFAD74D5EDC702F
卷号:
43
期号:
11
页面范围:
8391
是否译文:
否
发表时间:
2017-08-01
上一条:
Structural and optical properties of Al2xIn2 2xO3 films prepared by metal-organic chemical vapor deposition
下一条:
Preparation and characterization of single crystalline In2O3 films deposited on MgO(110) substrates by MOCVD
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