Characterization of tunable band gap aluminum indium oxide films prepared on SiO2 (0001) by MOCVD
发布时间：2019-10-24
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- 所属单位：
- 集成电路学院
- 发表刊物：
- Journal of Materials Science: Materials in Electronics
- 全部作者：
- 马瑾,栾彩娜
- 第一作者：
- 马瑾
- 论文编号：
- lw-178176
- 字数：
- 4
- 是否译文：
- 否
- 发表时间：
- 2016-01-08