Characterization of Rutile SnO2 Epitaxial Films Grown on MgF2 (001) Substrates by MOCVD
发布时间:2022-11-16
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- 所属单位:
- 集成电路学院
- 发表刊物:
- CRYSTAL RESEARCH AND TECHNOLOGY
- 第一作者:
- 栾彩娜
- 论文编号:
- 0594DF206D0340898C8FFB48CD9E2B87
- 卷号:
- 53
- 期号:
- 10
- 字数:
- 3000
- 是否译文:
- 否
- 发表时间:
- 2018-09-21