Heteroepitaxial growth of the orthorhombic Ta2O5 single-crystalline films on epi-GaN/α-Al2O3 (0001) substrates by MOCVD
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所属单位：微电子学院
发表刊物：CERAMICS INTERNATIONAL Journal
第一作者：马瑾
论文编号：FC05275B00DC4305A1EC798416E4AF56
期号：48
页面范围：26800
字数：5
是否译文：否
发表时间：2022-06-01
发表时间：2022-06-01