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High crystal quality β-Ga2O3 epitaxial films grown on porous n-GaN substrates

发布时间:2024-01-10
点击次数:
所属单位:
集成电路学院
发表刊物:
Materials Science in Semiconductor Processing
第一作者:
陈蓉蓉
论文编号:
6E9E1B6ECCDA49DFBD33446AD41152BE
期号:
168
页面范围:
107859
字数:
4
是否译文:
发表时间:
2023-11-01