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Atomic layer deposition of an Al2O3 dielectric on ultrathin graphit by using electron beam irradiation

发布时间:2019-04-14
点击次数:
所属单位:
物理学院
论文名称:
Atomic layer deposition of an Al2O3 dielectric on ultrathin graphit by using electron beam irradiation
发表刊物:
Journal of Semiconductors
第一作者:
蒋然
全部作者:
孟令国,张锡健
论文类型:
应用研究
论文编号:
lw-140562
卷号:
33
期号:
9
页面范围:
093004-1
是否译文:
发表时间:
2012-09
发布时间:
2019-04-14