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Schottky-barrier thin-film transistors based on HfO2-capped InSe

发布时间:2019-10-25
点击次数:
所属单位:
集成电路学院
论文名称:
Schottky-barrier thin-film transistors based on HfO2-capped InSe
发表刊物:
APPLIED PHYSICS LETTERS
第一作者:
辛倩
全部作者:
宋爱民,王一鸣,时彦朋,张翼飞,辛倩
论文编号:
7B2AFA27B7F54882ACFDC3B4111227BF
卷号:
115
期号:
1
字数:
4500
是否译文:
发表时间:
2019-07
发布时间:
2019-10-25